Cer (Ce) Sputtering-Targets
Zusammensetzung: Cer (Ce)
Katalog-Nr. DPME58ST
Reinheit: 99,9% (REE)
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- Produktdetails
Spezifikationen für das Cerium (Ce)-Sputtertarget
Formel: Ce
CAS-Nr.: 7440-45-1
Max. Durchmesser der flachen Scheiben-Sputtertargets: 14" Durchmesser
Typische Lieferzeit für Ce-Sputtertargets: 2 Wochen
Reguläre Abmessungen und Preise für Cerium (Ce)-Sputtertargets
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Produktname |
Referenzpreis |
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Cerium-Sputtertarget, 2" Durchmesser x 1/8" dick |
$335 | In den Warenkorb |
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Cerium-Sputtertarget, 3" Durchmesser x 1/8" dick |
$391 |
In den Warenkorb |
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Ce-Sputtertarget, 2" Durchmesser x 1/8" dick, mit In-Bindung an Cu-Rückplatte |
$415 |
In den Warenkorb |
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Ce-Sputtertarget, 3" Durchmesser x 1/8" dick, mit In-Bindung an Cu-Rückplatte |
$526 | In den Warenkorb |
Über unsere Sputtertargets
QS Advanced Materials Inc ist ein professioneller Anbieter von maßgefertigten FuE-Verbrauchsmaterialien. Unsere Anlagenausstattung ist flexibel, um verschiedenste Anforderungen von Kunden für flache Scheiben-Sputtertargets zu erfüllen. Wir unterstützen US-Nationalinstitute sowie Universitäten und Forschungseinrichtungen weltweit mit unserem Targetmaterial und anderen maßgefertigten Produkten. Eine Liste unserer anderen Seltene-Erden-Sputtertargets finden Sie hier.
Sputtern von Cer
Cerium (Ce)-Dünnschichtbeschichtungen, insbesondere solche, die durch Sputtern abgeschieden werden, werden in verschiedenen Hightech-Anwendungen eingesetzt, da Cer einzigartige Eigenschaften wie hohe Korrosionsbeständigkeit und optische Eigenschaften aufweist. Ceroxid-Dünnschichten werden häufig in der Optik für UV-Filter und Antireflexbeschichtungen eingesetzt. Sie werden auch in der Elektronikindustrie für Halbleitervorrichtungen sowie im Energiesektor, z.B. in Festoxid-Brennstoffzellen aufgrund ihrer Ionenleitfähigkeit und in Katalysatoren aufgrund ihrer Sauerstoffspeicherkapazität, verwendet.
Der Sputtervorgang von Cer findet in einer Vakuumkammer statt, in der ein Cer-Target mit hochenergetischen Argon-Ionen beschossen wird. Diese Ionen lösen Cer-Atome vom Target, die dann durch das Vakuum reisen und sich auf einem Substrat ablagern, um eine Dünnschicht zu bilden. Parameter wie die Leistungszufuhr zur Sputterkatode, der Betriebsdruck in der Kammer, der Abstand zwischen Target und Substrat und die Substrattemperatur werden sorgfältig eingestellt, um die Schichtdicke, Haftung und Kristallstruktur zu kontrollieren. Beim Sputtern von Cerfilmen ist oft eine präzise Kontrolle des Sauerstoffpartialdrucks beim reaktiven Sputtern erforderlich, um die richtige Stöchiometrie und Eigenschaften des resultierenden Ceroxidfilms sicherzustellen.
Verpackung von Cerium-Sputtertargets
Die Sputtertargets von QS Advanced Materials werden für den Versand in Plastikbeutel vakuumversiegelt. Wir verwenden auch starken Schaumstoff zum Schutz. Standardmäßig werden die Sputtertargets zusammen mit Packliste und Analysezertifikat (CoA) geliefert.
Um das Cerium-Sputtertarget vor Sauerstoff zu schützen, lassen wir normalerweise etwas Öl in der Verpackung. Weitere Details zum Reinigen des Targets finden Sie in dem Artikel "Cleaning Deposition Materials Packaged in Oil".
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