Fluorid

Fluoridverbindungen sind eine Gruppe chemischer Verbindungen, die das Element Fluor enthalten. Diese Verbindungen haben verschiedene Anwendungen, einschließlich ihrer Verwendung als optische Beschichtungen durch Sputtertechnik. Sputtern ist ein Prozess, bei dem Atome oder Moleküle aus einem festen Sputtertargetermaterial herausgelöst und auf ein Substrat abgeschieden werden, um eine dünne Schicht zu bilden.

Bei optischen Beschichtungen werden Fluoridverbindungen aufgrund ihrer einzigartigen Eigenschaften wie hoher Transparenz im ultravioletten (UV), sichtbaren und infraroten (IR) Bereich des elektromagnetischen Spektrums ausgewählt. Sie haben auch einen niedrigen Brechungsindex, eine hohe chemische Stabilität und eine gute Beständigkeit gegen Umweltfaktoren wie Feuchtigkeit und Temperatur.

Während des Sputterverfahrens wird ein Sputtertarget aus der gewünschten Fluoridverbindung mit hochenergetischen Ionen bombardiert, um Atome oder Moleküle abzulösen. Diese herausgelösten Teilchen lagern sich dann auf dem Substrat ab, um eine dünne und gleichmäßige Beschichtung zu bilden.

Einige Fluoridverbindungen, die als optische Beschichtungen durch Sputtertechnik häufig verwendet werden, sind:

1. Magnesiumfluorid (MgF2): MgF2 ist ein weit verbreitetes optisches Beschichtungsmaterial und dient aufgrund seiner hervorragenden Transparenz und seines niedrigen Brechungsindexes im UV- und sichtbaren Bereich als beliebtes Sputtertarget. Es wird häufig als Antireflexbeschichtung auf Linsen und anderen optischen Komponenten verwendet.

2. Aluminiumfluorid (AlF3): AlF3 ist für seinen hohen Brechungsindex im UV- und sichtbaren Bereich bekannt. Als Sputtertarget wird es oft als Reflektivbeschichtung oder in Kombination mit anderen Materialien zur Anpassung des Brechungsindex von Mehrschichtbeschichtungen verwendet.

3. Lithiumfluorid (LiF): LiF ist im UV- und sichtbaren Bereich transparent und hat einen relativ hohen Brechungsindex. Es dient als effektives Sputtertarget für Antireflexbeschichtungen, um die Haltbarkeit und Leistung optischer Komponenten zu verbessern.

4. Kalziumfluorid (CaF2): CaF2 ist im UV-, sichtbaren und IR-Bereich hochdurchlässig und hat einen niedrigen Brechungsindex. Als Sputtertarget wird es häufig verwendet, um Dünnschichten als Schutzschichten für empfindliche optische Elemente oder als Substrat für andere Dünnschichten herzustellen.

5. Bariumfluorid (BaF2): BaF2 ist im UV-, sichtbaren und IR-Bereich transparent und hat einen niedrigen Brechungsindex. Es dient als vielseitiges Sputtertarget in verschiedenen optischen Anwendungen, einschließlich Antireflexbeschichtungen, Strahlteiler und Fenster.

Diese Fluoridverbindungen können zu einem Sputtertarget verarbeitet und mit Hilfe der Sputtertechnik als Dünnschichten auf optische Substrate abgeschieden werden. Durch das Bombardieren des Sputtertargets aus der gewünschten Fluoridverbindung mit hochenergetischen Ionen werden Atome oder Moleküle abgelöst und dann auf das Substrat aufgebracht, was zu einer dünnen und gleichmäßigen Beschichtung führt.