Borides_Fluorides_Sputter_Target

Abgesehen von Oxiden, Carbiden und Nitriden gibt es immer noch eine breite Palette an Materialien, die häufig zur Herstellung von Sputtertargets und Verdampfungsmaterialien verwendet werden. Die häufigsten Beispiele sind Silizid-Sputtertargets, Fluorid-Sputtertargets und Borid-Sputtertargets. Bitte prüfen Sie bei QS Advanced Materials die Verfügbarkeit, wenn das Produkt nicht in der Liste ist.

Fluoridverbindungen sind eine Gruppe von chemischen Verbindungen, die das Element Fluor enthalten. Diese Verbindungen haben verschiedene Anwendungen, darunter auch ihre Verwendung als optische Beschichtungen durch Sputtertechnik. Sputtern ist ein Verfahren, bei dem Atome oder Moleküle aus einem festen Sputtertargetermaterial herausgelöst und auf ein Substrat abgeschieden werden, um eine dünne Schicht zu bilden.

Bei optischen Beschichtungen werden Fluoridverbindungen aufgrund ihrer einzigartigen Eigenschaften wie hoher Transparenz im ultravioletten (UV), sichtbaren und infraroten (IR) Bereich des elektromagnetischen Spektrums ausgewählt. Sie weisen auch einen niedrigen Brechungsindex, eine hohe chemische Stabilität und eine gute Beständigkeit gegen Umweltfaktoren wie Feuchtigkeit und Temperatur auf.

Während des Sputterverfahrens wird ein Sputtertarget aus der gewünschten Fluoridverbindung mit hochenergetischen Ionen beschossen, um Atome oder Moleküle herauszulösen. Diese ausgestoßenen Teilchen lagern sich dann auf dem Substrat ab, um eine dünne und gleichmäßige Beschichtung zu bilden.

Einige Fluoridverbindungen, die häufig als optische Beschichtungen durch Sputtertechnik verwendet werden, sind:

1. Magnesiumfluorid (MgF2): MgF2 ist ein weit verbreitetes optisches Beschichtungsmaterial, und es dient als beliebtes Sputtertarget aufgrund seiner hervorragenden Transparenz und seines niedrigen Brechungsindex im UV- und sichtbaren Bereich. Es wird häufig als Antireflexionsbeschichtung auf Linsen und anderen optischen Komponenten verwendet.

2. Aluminiumfluorid (AlF3): AlF3 ist bekannt für seinen hohen Brechungsindex im UV- und sichtbaren Bereich. Als Sputtertarget wird es oft als reflektierende Beschichtung oder in Kombination mit anderen Materialien verwendet, um den Brechungsindex von Mehrschichtbeschichtungen anzupassen.

3. Lithiumfluorid (LiF): LiF ist im UV- und sichtbaren Bereich transparent und hat einen relativ hohen Brechungsindex. Es dient als effektives Sputtertarget für Antireflexionsbeschichtungen und erhöht die Beständigkeit und Leistung optischer Komponenten.

4. Calciumfluorid (CaF2): CaF2 ist im UV-, sichtbaren und IR-Bereich hochdurchlässig und hat einen niedrigen Brechungsindex. Als Sputtertarget wird es häufig als Schutzschicht für empfindliche optische Elemente und als Substrat für andere dünne Schichten verwendet.

5. Bariumfluorid (BaF2): BaF2 ist im UV-, sichtbaren und IR-Bereich transparent und hat einen niedrigen Brechungsindex. Es dient als vielseitiges Sputtertarget in verschiedenen optischen Anwendungen, einschließlich Antireflexionsbeschichtungen, Strahlteiler und Fenster.

Diese Fluoridverbindungen können zu einem Sputtertarget verarbeitet und dann mittels Sputtertechnik als dünne Schichten auf optische Substrate aufgebracht werden. Durch Beschuss des Sputtertargets aus der gewünschten Fluoridverbindung mit hochenergetischen Ionen werden Atome oder Moleküle herausgelöst und anschließend auf das Substrat abgeschieden, was zu einer dünnen und gleichmäßigen Beschichtung führt.