Zinn (Sn) Produkte
Zinn (Sn) ist ein vielseitiges Element mit der Ordnungszahl 50, das in verschiedenen Verbindungen und Materialien, insbesondere in der Halbleiterindustrie, weit verbreitet ist. Lassen Sie uns die Anwendungen von Sn-bezogenen Substanzen wie reinem Zinn (Sn), Indiumzinnoxid (ITO), Zinnsulfid (SnS) und Zinnoxid (SnO2) mit Fokus auf die Halbleiterindustrie und den Einsatz von Sputtertargets untersuchen.
Zinn (Sn)-Metall wird aufgrund seines niedrigen Schmelzpunkts und seiner hervorragenden Verformbarkeit häufig in Lötanwendungen verwendet. Es dient als zuverlässiger elektrischer und thermischer Leiter, was es für das Verbinden elektronischer Komponenten unerlässlich macht.
Indium tin oxide (ITO) ist ein weiteres Sn-haltiges Material mit wichtiger Bedeutung. Es ist ein transparentes, leitfähiges Oxid, das in vielen elektronischen Geräten wie Flachbildschirmen, Touchscreens und Solarzellen eingesetzt wird. ITO zeichnet sich durch eine hohe elektrische Leitfähigkeit und optische Transparenz aus, was es zu einem idealen Material für Anwendungen macht, die sowohl elektrische als auch optische Eigenschaften erfordern. ITO-Dünnschichten können mithilfe von Sputtertargets hergestellt werden, was eine präzise Kontrolle der Filmzusammensetzung und -dicke ermöglicht und so die Leistung elektronischer Geräte optimiert.
Zinnsulfid (SnS) ist ein Halbleitermaterial mit interessanten optoelektronischen Eigenschaften. Es findet Anwendung in Photovoltaikzellen, Infrarotdetektoren und anderen optoelektronischen Geräten. SnS-Dünnfilme können durch Sputtern von Zielträgern hergestellt werden, was die Herstellung von Bauelementen mit optimierten Eigenschaften ermöglicht.
Zinnoxid (SnO2), auch als Stannikoxid bekannt, ist ein vielseitiges Material, das in Gassensoren, transparenten Elektroden und Energiespeichergeräten eingesetzt wird. Es bietet eine hohe elektrische Leitfähigkeit und eine hervorragende Stabilität bei hohen Temperaturen. Sputtertargets werden für die Abscheidung von SnO2-Dünnfilmen verwendet, was eine präzise Kontrolle der Filmdicke und -zusammensetzung für eine optimierte Geräteleistung ermöglicht.
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Fluorindotierte SnO (FTO) Sputter-Targets
Zusammensetzung: SnO
Katalog-Nr.: DP-FTO-ST
Reinheit: 99,9%
Klicken Sie bitte für Rabatte und andere GrößenKlicken Sie hier für das SDS-Dokument des SnO2-Sputtering-Targets