Hochreine Materialien
QS Advnaced Materials verwendet eine Vielzahl hochreiner Materialien, um unsere Produkte herzustellen. Einige dieser Materialien sind auch als Produkte selbst geeignet. Dazu gehören Zirkonium- und Hafnium-Kristallstangen, Elektrolyt-Eisen (Fe), destillierte Seltenerden-Metalle und halbleitergradiges Bor, usw.
Kristallstangen
Zirkonium und Hafnium sind zwei eng verwandte Elemente, die ähnliche Eigenschaften und Kristallstrukturen aufweisen. Beide Elemente gehören zur selben Gruppe im Periodensystem, der "Titangruppe". Eine Kristallstange aus Zirkonium oder Hafnium bezeichnet ein hochreines Zr- oder Hf-Metall, das mit der Iodid-Kristallisationsmethode hergestellt wird. Im Herstellungsprozess werden die Rohmaterialien Zr oder Hf chemisch zu Zirkoniumiodid oder Hafniumiodid umgesetzt. Aufgrund des relativ niedrigen Siedepunkts von Iodiden können sie in einer Vakumumgebung ohne zu viel Wärme verdampft werden. Anschließend werden die Iodide in einem Reaktionsgefäß auf hohe Temperaturen erhitzt, wodurch sie sich zersetzen und auf einem Masterträger ablagern. Für Zirkonium-Kristallstangen wird ein Zr-Draht als Masterträger verwendet, für Hafnium-Kristallstangen ein Hf-Draht. Dieses Kristallisationsverfahren ergibt polykristalline Metallstangen, daher der Name "Kristallstange". Der Verdampfungs-Rekristallisationsprozess verbessert die Reinheit des Metalls erheblich, typischerweise auf Werte von 99,95% oder sogar höher.
Halbleitergradiges Bor
Als leichtes Element ist Bor von Natur aus nicht besonders teuer. Um jedoch die Anforderungen der Halbleiterindustrie zu erfüllen, ist hochreines Bor mit einer Reinheit von über 99,99% erforderlich. QSAM hat in Zusammenarbeit mit seinen Partnern eine Versorgung mit hochreinem Bor beschafft, um den Bedarf von Forschungseinrichtungen zu decken und die Nachfrage nach Großexperimenten zu bedienen. Darüber hinaus kann QSAM Unterstützung für die Großproduktion leisten und so eine zuverlässige Quelle für hochreines Bor bereitstellen.
Destillierte Seltenerdenmetalle
Die Destillationsreinigung von Seltenerdenmetallen ist ein Verfahren, das zur Trennung und Reinigung von Seltenerdenmetallen verwendet wird. Dabei werden die gemischten Seltenerdenmetalle auf ihre jeweiligen Siedepunkte erhitzt, woraufhin die verdampften Metalle kondensiert und gesammelt werden. Tantalumkondensatoren werden häufig eingesetzt, da sie eine hervorragende Korrosionsbeständigkeit und einen hohen Schmelzpunkt aufweisen. Sie kühlen und kondensieren die verdampften Seltenerdenmetalle effizient, so dass diese gesammelt werden können. Wolfram-Tiegel werden verwendet, um das Rohstoffmaterial der Seltenerdenmetalle während der Destillation zu enthalten. Dieser Destillationsprozess ermöglicht die Herstellung von hochreinen Seltenerdenmetallen für verschiedene industrielle Anwendungen.
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Kobalt-Eisen (Co/Fe) Sputtering-Targets
Zusammensetzung: Cobalt und Eisen
Katalog-Nr.: DPMA27ST
Reinheit: 99,9% ~ 99,95%
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Kobalt-Eisen-Bor (Co/Fe/B) Sputtering-Targets
Zusammensetzung: Cobalt, Bor und Eisen
Katalog-Nr. DPMA BO27ST
Reinheit: 99,5% ~ 99,9%
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Kupfer-Gallium (Cu/Ga) Sputtering-Targets
Zusammensetzung: Kupfer und Gallium
Katalog-Nr. DPMA29ST
Reinheit: 99,9% ~ 99,99%
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Kupfer-Germanium (Cu/Ge) Sputtering-Targets
Zusammensetzung: Kupfer und Germanium
Katalog-Nr. DPMA29ST
Reinheit: 99,9% ~ 99,99%
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Kupfer-Indium (Cu/In) Sputtering-Targets
Zusammensetzung: Kupfer und Indium
Katalog-Nr. DPMA29ST
Reinheit: 99,9% ~ 99,99%
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Kupfer-Indium-Gallium (Cu/In/Ga) Sputtering-Targets
Zusammensetzung: Kupfer, Gallium und Indium
Katalog-Nr. DPMA29ST
Reinheit: 99,9% ~ 99,95%
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Molybdän-Chrom (Mo/Cr) Sputtering-Targets
Zusammensetzung: Molybdän und Chrom
Katalog-Nr. DPMA42ST
Reinheit: 99,9% ~ 99,95%
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Molybdän-Niob (Mo/Nb) Sputtering-Targets
Zusammensetzung: Molybdän und Niob
Katalog-Nr. DPMA42ST
Reinheit:99,9% ~ 99,95%
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Molybdän-Titan (Mo/Ti) Sputtering-Targets
Zusammensetzung: Molybdän und Titan
Katalog-Nr. DPMA42ST
Reinheit: 99,9 % ~ 99,95 %
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Nickel-Chrom (Ni/Cr 80/20) Sputtering-Targets
Zusammensetzung: Nickel und Chrom
Katalog-Nr. DPMA28ST
Reinheit: 99,9% ~ 99,99%
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Wolfram-Titan (W/Ti) Sputtering-Targets
Zusammensetzung: Wolfram und Titan
Katalog-Nr. DPMA74ST
Reinheit: 99,9 % ~ 99,95 %
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Zink-Zinn (Zn/Sn) Sputtering-Targets
Zusammensetzung: Zink und Zinn
Katalog Nr. DPMA30ST
Reinheit: 99,9% ~ 99,999%
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Antimon (Sb) Sputtering-Targets
Zusammensetzung: Antimon
Katalog-Nr.DPME51ST
Reinheit:99.9% ~ 99.99995%
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Bismut (Bi) Sputtering-Targets
Zusammensetzung: Wismut
Katalog-Nr.DPME83ST
Reinheit:99.9% ~ 99.999%
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Bor (B) Sputtering-Targets
Zusammensetzung: Bor
Katalog-Nr. DPME5ST
Reinheit:99,5%
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Kadmium (Cd) Sputtering-Targets
Zusammensetzung: Cadmium
Katalog-Nr. DPME48ST
Reinheit: 99,9% ~ 99,999%
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Kohlenstoff (C) Sputtering-Targets
Zusammensetzung: Kohlenstoff
Katalog-Nr. DPME6ST
Reinheit: 99,9% ~ 99,999%
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Chrom (Cr) Sputtering-Targets
Zusammensetzung: Chrom
Katalog-Nr. DPME24ST
Reinheit: 99,5% ~ 99,995%
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Kobalt (Co) Sputtering-Targets
Zusammensetzung: Cobalt
Katalog-Nr. DPME27ST
Reinheit: 99,9% ~ 99,99%
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Germanium (Ge) Sputtering-Targets
Zusammensetzung: Germanium
Katalog-Nr. DPME32ST
Reinheit: 99,9% ~ 99,9999%
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