Wismutferrit (BiFeO3) Sputtering-Targets
Zusammensetzung: Bismutferriat (BiFeO3)
Katalog-Nr. DPOX83ST
Reinheit: 99,9%
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- Produktdetails
Spezifikationen des Bismutferriat (BiFeO3)-Sputtertargets
Formel: BiFeO3
CAS-Nr.: N.A.
Max. Durchmesser der flachen Scheiben-Sputtertargets: 6"
Typische Lieferzeit für Bismutferriat-Sputtertargets: 5 Wochen
Regelmäßige Abmessungen und Preise des Bismutferriat (BiFeO3)-Sputtertargets
Produktname |
Referenzpreis |
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2"dia x 1/8"t Bismutferriat-Sputtertarget |
674 $ | Zum Warenkorb hinzufügen |
3"dia x 1/8"t Bismutferriat-Sputtertarget |
869 $ |
Zum Warenkorb hinzufügen |
2"dia x 1/8"t BiFeO3-Sputtertarget mit In-Bindung an Cu-Rückplatte |
754 $ |
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3"dia x 1/8"t BiFeO3-Sputtertarget mit In-Bindung an Cu-Rückplatte |
1.004 $ | Zum Warenkorb hinzufügen |
Über unsere Sputtertargets
QS Advanced Materials Inc ist ein professioneller Anbieter von kundenspezifisch gefertigten F&E-Verbrauchsmaterialien. Unsere Anlagenausstattung ist flexibel genug, um verschiedenste Anforderungen einer breiten Palette von Kunden an flache Scheiben-Sputtertargets zu erfüllen. Wir unterstützen US-Nationallabors und Forschungseinrichtungen weltweit mit unseren Targetmaterialien und anderen kundenspezifischen Produkten. Hier finden Sie eine Liste unserer anderen Mischoxid-Sputtertargets
Sputtern von Bismutferriat
Die Sputtertechnik wird häufig verwendet, um einen dünnen Film von Bismutferriat herzustellen. Das BiFeO3-Targetmaterial wird auf der Elektrode in der Sputterkammer platziert. Schwere Ionenteilchen oder Laser werden häufig verwendet, um das Beschichtungsmaterial vom Target, in diesem Fall aus Bismutferriat, abzulösen, um einen dünnen Film von BiFeO3 auf der Substratoberfläche zu erzeugen.
Verpackung des Bismutferriat-Sputtertargets
Die Sputtertargets von QS Advanced Materials Inc. werden für den Versand vakuumdicht in Plastikbeutel verpackt. Wir verwenden auch schweren Schaumstoff zum Schutz. Zusammen mit den Sputtertargets werden üblicherweise Packliste und Analysebericht, z.B. COA, mitgeliefert.
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