Abscheidungsmaterialien
Physikalische Gasphasenabscheidung (PVD) ist eine weit verbreitete Methode zum Aufbringen dünner Materialschichten auf verschiedene Substrate. Dabei werden Beschichtungsmaterialien mittels Techniken wie Sputtern und Verdampfen auf eine Zielfläche aufgebracht. Diese Techniken verwenden spezialisierte Materialien, die als Sputtertargets und Verdampfungsmaterialien bekannt sind.
Sputtertargets sind feste Materialien, die mit hochenergetischen Ionen beschossen werden, um Atome oder Moleküle von ihrer Oberfläche abzulösen. Diese abgelösten Teilchen lagern sich dann auf dem Substrat ab und bilden einen dünnen Film. Sputtertargets sind in verschiedenen Zusammensetzungen erhältlich, um spezifische Beschichtungsanforderungen zu erfüllen.
QS Advanced Materials ist ein professioneller Lieferant von Sputtertargets und Verdampfungsmaterialien aus seltenen und maßgeschneiderten Materialien, insbesondere aus Seltenerden, Keramiken, Verbundoxiden, Speziallegierungen und hochreinen Materialien.
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Thulium (Tm) Sputtering-Targets
Zusammensetzung: Thulium (Tm)
Katalog-Nr.: DPME69ST
Reinheit: 99,9% (REM)
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Rhenium (Re) Sputtering-Targets
Zusammensetzung: Rhenium
Katalog-Nr.:DPMA75ST
Reinheit: 99,99%
Maximaler Durchmesser: 8"
Typische Lieferzeit: 2 Wochen
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Aluminiumnitrid (AlN) Scheiben-Sputtering-Targets
Zusammensetzung: Aluminiumnitrid (AlN)
Katalog-Nr.:DPND13ST
Reinheit:99,9%
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Titannitrid (TiN) Sputtering-Targets
Zusammensetzung: Titannitrid (TiN)
Katalog-Nr.: DPND22ST
Reinheit: 99,50%
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Vanadiumdioxid (VO2) Sputtering-Target
Zusammensetzung: Vanadium(IV)-Dioxid (VO2)
Katalog-Nr.:DPOX23ST2
Reinheit: 99,99%
Maximaler Durchmesser: 10"
Typische Lieferzeit: 4 Wochen
Referenzpreis: $565 (2" Durchm. x 1/8") -
Chromnitrid (CrN) Sputtering-Targets
Zusammensetzung: Chromnitrid (CrN)
Katalog-Nr.: DPND24ST
Reinheit: 99,5% ~ 99,9%
Typische Lieferzeit: 4 Wochen
Ref. Preis: 456,40 $ (Durchmesser 2 Zoll x 1/8 Zoll) -
Tantalnitrid (TaN) Sputtering-Targets
Zusammensetzung: Tantalnitrid (TaN)
Katalog-Nr.: DPND73ST
Reinheit: 99,50%
Typische Lieferzeit: 4 Wochen
Ref. Preis: 790 $ (Durchmesser 2 Zoll x 1/8 Zoll) -
Siliziumkarbid (SiC) Sputtering-Targets
Zusammensetzung: Siliziumkarbid (SiC)
Katalog-Nr.: DPCB14ST
Reinheit: 99,50%
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Germaniumtellurid (GeTe) Sputtering-Targets
Zusammensetzung: Germaniumtellurid (GeTe)
Katalognr.:DPTE32ST
Reinheit:99,9% ~ 99,999%
Maximaler Durchmesser:10"
Typische Lieferzeit:4 Wochen
Referenzpreis:$720 (2" Ø x 1/8") -
Scandium (Sc) Sputtering-Targets
Katalog-Nr.: DPME21ST
Reinheit: 99,5-99,9% (Sc/TREM 99,9%-99,99%) Hier klicken für die Spezifikationen des Sc-Sputtertargets
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Neodymiumoxid (Nd2O3) Sputtering-Targets
Zusammensetzung:Neodymoxid (Nd2O3)
Katalog-Nr.:DPOX60ST
Reinheit:99,9% ~ 99,99% (REO)
Max. Durchmesser:18"
Typische Lieferzeit:3 Wochen
Ref. Preis:$500 (2" Durchm. x 1/8") -
Sputtering-Targets S~Z
QS Advanced Materials Inc ist ein professioneller Anbieter von Zerstäubungszielen. Unsere Zerstäubungsziel-Produktionslinie umfasst
Heißpressen (keramische Zerstäubungsziele, z.B. Y2O3 ITO-Zerstäubungsziele),
Vakuuminduktionsschmelzen (Metall-Zerstäubungsziele, z.B. Sc, Gd-Zerstäubungsziele)
Drahterodieren (routinemäßig hergestellte Zerstäubungsziele, z.B. Re-Zerstäubungsziele)